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等離子刻蝕機(jī)/Plasma Etching

適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進(jìn)行等離子體活化、刻蝕、清洗，鍍膜。
處理時(shí)的因熱負(fù)荷及機(jī)械負(fù)荷都很低，故也可處理敏感性材料。
典型應(yīng)用：等離子體清除浮渣、光阻材料剝離、各向異性和各向同性失效分析應(yīng)用、等離子刻蝕反應(yīng)、鈍化層蝕刻、聚亞酰胺蝕刻等。

	設(shè)備參數(shù) 處理面：直徑10.5”不銹鋼裝載裝置，水冷陶瓷絕緣真空腔：內(nèi)徑15”陽極電鍍鋁，表面氧化處理處理均勻性±5% 水冷機(jī)：W16”× D36”× H24” 氣體箱：W30”× D24”× H12”

	外部連接電源：220V AC? 30mA?? 50/60Hz 壓縮空氣或氮?dú)猓?0-100PSI?? 1/4”快速接頭QC 處理氣體：15PSI? 100sccm? 1/4”外螺紋VCR接頭排氣：50CFM?? KF40快卸緊固法蘭水冷：30-60PSI?? 3/8”快速接頭QC

	基本配置電源配給，RIE 安全互鎖裝置通訊接口模塊設(shè)備水電氣連接系統(tǒng) 控制器

	RIE配置等離子射頻電源 RF600W（可選裝RF1000W）氣體流量控制：MFC質(zhì)量流量計(jì)×4（1路適用于氯氣）裝載配置：真空裝載腔真空系統(tǒng)、真空裝載腔加熱組件控制系統(tǒng)：電腦控制、標(biāo)準(zhǔn)19”液晶顯示屏真空泵：分子渦輪泵、機(jī)械泵（干泵）8cfm-C 真空控制組件、射頻電極組件、真空存儲(chǔ)腔

產(chǎn)品關(guān)鍵詞：常溫常壓等離子清洗機(jī)、小型等離子清洗機(jī)、常溫常壓等離子設(shè)備、等離子清洗機(jī)廠家、等離子除塵、等離子刻蝕、等離子接枝、等離子沉積、等離子改性、等離子活化；真空等離子清洗、真空等離子除塵、真空等離子刻蝕、真空等離子接枝、真空等離子沉積、真空等離子改性、真空等離子活化；plasma、plasma clear、plasma treatment system、plasma treatment、plasma system。

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