JRP經過十多年的摸索和實踐,在玻璃真空鍍膜系統設計、制造、工藝、技術服務積累了雄厚的真空技術實力,并且已成為玻璃真空鍍膜整套工程總承建商和設備供應商。JRP堅持以高品質為基礎,通過不懈努力,積累了豐富的設計和建造經驗,并和眾多客戶建立了長期穩固的合作關系。JRP以其專業的設計、強大的制造能力、嚴格的質量控制,為客戶提供優良的產品質量以及良好的售后服務,贏得廣大客戶的信任。
JRP提供在線立式,在線臥式等設備,用于生產熱反射膜玻璃,低輻射(low-E)膜玻璃,ITO、AZO、FTO導電玻璃,自潔凈玻璃,二向色鍍膜玻璃,抗反射膜玻璃等。
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該生產線是利用磁控濺射鍍膜技術在玻璃上沉積含導電層的多層納米復合薄膜。
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基片尺寸:1400mm×1100mm×3.2mm
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加熱溫度:≤350℃PID控溫
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AZO膜層厚度:800-1000nm
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采用分段供氣(5段、7段、11段等),提高真空膜層均勻性
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氣體隔離狹縫創新設計,互換等隔倉設計,可隨意調整泵位、氣體隔離位和靶位
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具有多種控制和操作方式,界面人性化
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可完成AZO、ITO、導電玻璃鍍膜
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應用于光伏行業,ITO行業,家電玻璃行業及飛機、艦船玻璃等。
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該設備為臥式磁控濺射鍍膜生產線,可連續鍍金屬單質膜、氧化物膜,也可根據要求實現單層膜和多層膜的連續生產。
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基片尺寸:1650mmX707mmX2片
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控制模式: PC+PLC
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工件尺寸可根據用戶要求設計制作
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JRP生產的鍍膜生產線主要有以下特點:
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用真空大面積磁控濺射技術,沉積效率高,膜層質量高,可重復性好
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采用分段式供氣,提高真空膜層均勻性
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采用分區多點控溫模式,有效保證基片溫度均勻性,從而減少碎片幾率,大幅提高產品質量
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采用隔氣單元,對不同工藝段進行有效氣氛隔離
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電氣控制系統:PLC+PC自動控制結構,具有多種控制和操作方式,界面人性化。提供實時動態監測,對設備運行異常數據及故障進行報警提示,并進行相應記錄
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可根據客戶的要求設計生產
產品關鍵詞:常溫常壓等離子、常溫常壓等離子設備、等離子清洗、等離子除塵、等離子刻蝕、等離子接枝、等離子沉積、等離子改性、等離子活化;真空等離子清洗、真空等離子除塵、真空等離子刻蝕、真空等離子接枝、真空等離子沉積、真空等離子改性、真空等離子活化;plasma、plasma clear、plasma treatment system、plasma treatment、plasma system。