磁控濺射鍍膜設備主要是使用直流（或中頻）磁控濺射，可適應廣泛鍍膜靶材，如：銅、鈦、鉻、不繡鋼、鎳等金屬材料，可以利用濺射工藝進行鍍膜，可提高膜層的附著力、重復性、致密度、均勻度等特點。
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磁控濺射設備應用
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鉆頭鍍膜、銑刀鍍膜、模具鍍膜
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建筑玻璃鍍膜和汽車玻璃鍍膜用光學鍍膜設備
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磁控濺射連續式鍍膜生產線
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光學儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀鍍制的反射膜
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增透膜和吸收膜
磁控濺射設備參數
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艙體尺寸：1200×1500、1400×1950、1600×1950、1800×1950
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電源類型：直流磁控電源、中頻磁控電源、高壓離子轟擊電源
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圓柱靶：直流磁控靶、中頻孿生靶、平面靶
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艙體結構：立式開門
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真空系統：滑閥泵+羅茨泵+擴散泵+維持泵（可選裝：分子泵、深冷泵）
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氣路系統：1-4路MFC
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極限真空：6×10－4pa（空載）
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抽氣時間：空載大氣抽至5×10－3pa小于13分鐘
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旋轉方式：6軸、8軸、9軸公自轉，變頻無級調速
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控制方式：全自動、觸摸屏+PLC
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