真空蒸發鍍膜的基材主要是常用的薄膜基材有：BOPET、BONY、BOPP、PE、PVC等塑料薄膜和紙張類。除了薄膜和紙張外，真空蒸鍍廣泛應用于塑料、金屬、陶瓷、合成樹脂、蠟、木材等制品。
|
真空蒸發鍍膜設備應用
-
電子產品鍍膜
-
禮品鍍膜
-
飾品鍍膜
-
工藝品鍍膜
-
各種燈具反光罩鍍膜
-
包裝用品鍍膜
-
裝飾裝潢產品鍍膜等
|
|
|
|
|
真空蒸發鍍膜設備參數
-
艙體尺寸：1200×1500、1400×1950、1600×1950、1800×1950
-
電源類型：直流磁控電源、中頻磁控電源、高壓離子轟擊電源
-
圓柱靶：直流磁控靶、中頻孿生靶、平面靶
-
艙體結構：立式開門
-
真空系統：滑閥泵+羅茨泵+擴散泵+維持泵（可選裝：分子泵、深冷泵）
-
氣路系統：1-4路MFC
-
極限真空：6×10－4pa（空載）
-
抽氣時間：空載大氣抽至5×10－3pa小于13分鐘
-
旋轉方式：6軸、8軸、9軸公自轉，變頻無級調速
-
控制方式：全自動、觸摸屏+PLC
|
|
|
|
產品關鍵詞：常溫常壓等離子、常溫常壓等離子設備、等離子清洗、等離子除塵、等離子刻蝕、等離子接枝、等離子沉積、等離子改性、等離子活化；真空等離子清洗、真空等離子除塵、真空等離子刻蝕、真空等離子接枝、真空等離子沉積、真空等離子改性、真空等離子活化；plasma、plasma clear、plasma treatment system、plasma treatment、plasma system。
